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鄧輝
副教授
鄧輝博士,南方科技大學機械與能源工程系長聘副教授,博士生導師。鄧輝博士2017年加入南方科技大學后建立"等離子體先進制造實驗室-APMLab"。本團隊致力于創(chuàng)新性超精密制造技術的研究,為制造技術向原子精度的突破貢獻力量。
實驗室研究聚焦于兩點:其一、以原子尺度物理化學反應為核心技術手段,開發(fā)非應力式原子級材料去除新方法,實現(xiàn)微觀尺度的原子級精度制造;其二、以加工算法為基礎,研究加工過程的量化控制與預測等關鍵技術問題,實現(xiàn)宏觀尺度的納米級精度制造。
 
 
 研究領域:
l 原子及近原子尺度制造: ACSM
l 原子選擇刻蝕技術: Atom-selective Etching
l 原子遷移制造技術: Atom-migration Manufacturing
 
工作經(jīng)歷:
◆ 2022年12月~至今:南方科技大學,機械與能源工程系,長聘副教授 (研究員)
◆ 2017年7月~2022年12月:南方科技大學,機械與能源工程系,助理教授 (副研究員)
◆ 2016年3月~2017年6月:新加坡制造技術研究院 (SIMTech),科學家
◆ 2013年4月~2016年3月:日本學術振興會 (JSPS),青年研究員
 
教育經(jīng)歷:
◆ 2013年4月~2016年3月:大阪大學 (日本),精密科學與技術專業(yè),博士
◆ 2011年4月~2013年3月:大阪大學 (日本),精密科學與技術專業(yè),碩士
◆ 2006年9月~2010年6月:華中科技大學,機械設計制造及其自動化專業(yè),學士
 
所獲榮譽:
◆ 2021年:入選“全球排名前2%頂尖科學家”榜單
◆ 2021年:期刊Nanomanufacturing and Metrology (NMME), Outstanding Contribution Award 
◆ 2020年:入選“全球排名前2%頂尖科學家”榜單
◆ 2016年:國際光學工程學會 (SPIE),Rudolf Kingslake Award
◆ 2015年:中國留學基金委,國家優(yōu)秀海外留學生獎
◆ 2014年:日本機床技術振興協(xié)會,機床技術振興獎
 
社會職務
青年編委:
◆ International Journal of Extreme Manufacturing (IJEM, JCR Q1, IF=10.04)
◆ Nanomanufacturing and Metrology (NMME)
◆ Nanotechnology and Precision Engineering (NPE)
 
委員:
◆ 中國機械工程學會 (CMES) -極端制造分會
◆ 美國機械工程師學會 (ASME)
◆ 日本精密工學會 (JSPE)
◆ 國際納米制造學會(ISNM)
◆ 國際工程與技術科學院(AET)
 
 
代表性學術論文:
(1) Z. Fang, Y. Zhang, R. Li, Y. Liang and H. Deng*: An efficient approach for atomic-scale polishing of single-crystal silicon via plasma-based atom-selective etching, International Journal of Machine Tools and Manufacture 159 (2020) 103649. (封面論文)
(2) R. Yi, Y. Zhang, X. Zhang, F. Fang and H. Deng*: A Generic Approach of Polishing Metals via Isotropic Electrochemical Etching, International Journal of Machine Tools and Manufacture 150 (2020) 103517.
(3) H. Deng, K. Endo and K. Yamamura: Damage-free finishing of CVD-SiC by a combination of dry plasma etching and plasma-assisted polishing, International Journal of Machine Tools and Manufacture 155 (2017) 38-46.
(4) H. Deng, K. Endo and K. Yamamura*: Plasma-assisted polishing of gallium nitride to obtain a pit-free and atomically flat surface, CIRP Annals-Manufacturing Technology 64 (2015) 531-534.
(5) H. Deng, K. Monna, T. Tabata, K. Endo and K. Yamamura*: Optimization of the plasma oxidation and abrasive polishing processes in plasma-assisted polishing for high effective planarization of 4H-SiC, CIRP Annals-Manufacturing Technology 63 (2014) 529-532.
 
 
其他信息:
l 更多信息,請訪問APMLab主頁:https://faculty.sustech.edu.cn/dengh/
l 實驗室非常歡迎本科生參觀了解,請聯(lián)系:[email protected]
l 本課題組長期招聘博士后,待遇優(yōu)厚,歡迎郵件聯(lián)系:[email protected]


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